n 电子、半导体、电镀、精细化工

——设备系统生产目标：纯水、高纯水

——应用范围：半导体材料、器件，激光材料、器件，线路板，微电子工业，精化分析，检验分析

——设备系统生产规模：0.1~200m3/h

——原水水质：

    一般应符合工业自来水或[生活饮用水卫生标准]   GB5749-85

——产水水质根据下述分级应用：

    [电子级水的技术标准]   GB11446-1-89

——公司提供的设备系统特点：

     原水首先经过预处理，然后进入后处理系统。后处理含反渗透工艺，对需进一步脱离子的高纯水，反渗透工艺产出的水接续由复床、混床、EDI去离子设备作进一步深度处理，其产出水还用紫外线杀菌，最后送到用水点。